中文摘要
全场X 射线显微成像技术具有极高的空间分辨率。这一技术在纳米生物医学、纳米材料研究中具有重要的应用，因此世界上大部分同步辐射装置均建有全场X 射线显微成像实验站。而这种X 射线显微成像技术的空间分辨率与成像放大波带片的最外环的宽度有关。因此，要得到空间分辨率为几十纳米的X 射线显微成像，波带片的最外环的宽度也应为几十纳米。同时，由于X 射线的穿透能力强，用于X 射线显微成像的波带片的图形厚度必须达到几百纳米甚至接近微米，也就是说图形的高宽比很大，因此这一波带片的制作难度非常大。它是阻碍X 射线显微成像实现高空间分辨率的关键因素。本项目主要是研究波带片制作的关键技术，结合电子束光刻和X射线光刻的技术优点，成功研制了最外环宽度100纳米，高宽比大于7的X射线显微成像波带片；同时，开展了X 射线显微成像应用研究，促进了我国的X 射线显微成像技术发展。
英文摘要
X-ray imaging technique has the chrarateric of high spatial resolution. It will have.potential application in biomedicine and namomaterials. The x-ray imaging end-stations.have been constructed in many synchrotron light sources through worldwild. The X-ray.imaging spatial resolution depend on the outmost width of object zone plate . The outmost zone width should be down to several tens nanometets for the X-ray imaging with resoultion of serval tens nanometers. At the same time the zone plate structure with high aspect ratio are required to obtain high diffraction efficiency.So it is difficult to fabricate such zone plate for X-ray imaging. A new method has been developed to fabricate the zone plate in this project. The X-ray imaging zone plate, which has the outermostzone width of 100nm and the aspect ratio more than 7, has been fabricate by combining e-beam lithograpgy and X-ray lithography at NSRL.
结题摘要
全场X 射线显微成像技术具有极高的空间分辨率。这一技术在纳米生物医学、纳米材料研究中具有重要的应用，因此世界上大部分同步辐射装置均建有全场X 射线显微成像实验站。而这种X 射线显微成像技术的空间分辨率与成像放大波带片的最外环的宽度有关。因此，要得到空间分辨率为几十纳米的X 射线显微成像，波带片的最外环的宽度也应为几十纳米。同时，由于X 射线的穿透能力强，用于X 射线显微成像的波带片的图形厚度必须达到几百纳米甚至接近微米，也就是说图形的高宽比很大，因此这一波带片的制作难度非常大。它是阻碍X 射线显微成像实现高空间分辨率的关键因素。本项目主要是研究波带片制作的关键技术，结合电子束光刻和X射线光刻的技术优点，成功研制了最外环宽度100纳米，高宽比大于7的X射线显微成像波带片；同时，开展了X 射线显微成像应用研究，促进了我国的X 射线显微成像技术发展。