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《CHEMICAL VAPOR DEPOSITION》杂志封面
  • 所属分类:首页 > SCI期刊 > 工程技术
  • 期刊名: CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
  • 期刊名缩写:
  • 国际刊号:0948-1907
  • 2019年影响因子:0.000
  • 出版国家或地区:GERMANY
  • 出版周期:Bimonthly
  • 出版年份:0
  • 年文章数:0
  • 是否OA开放访问:No
  • 官方网站:onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862
  • 投稿网址:
  • 编辑部地址:WILEY-V C H VERLAG GMBH, PO BOX 10 11 61, WEINHEIM, GERMANY, D-69451

《CHEMICAL VAPOR DEPOSITION》中科院SCI期刊分区( 2017最新版本)

  • 大类学科及分区:
  • 工程技术 3区
  • 小类学科及分区:
  • ELECTROCHEMISTRY
    电化学
    4区
    MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
    材料科学:膜
    3区
    PHYSICS, CONDENSED MATTER
    物理:凝聚态物理
    4区
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